P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Superseded

P04400 - SEMI P44 - マスク装置向けオープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OASIS®）の仕様 Revision:SEMI P44-0709 - Supersededglobal Micropatterning Committee2009513global Audits and Reviews Subcommittee20096www. semi. org20097CD ROM200511200811 OASISOASIS. MASK Referenced SEMI Standards SEMI P39 OASIS Open Artwork System InterchangeStandard

サプライヤマーク付き裏面を持つ300 mm ウェーハの場合は時として，1回ないし数回のリクレイムサイクル後にマークを再刻印する必要がある。従って，本仕様書にはそのようなウェーハの再刻印を規定する付属書が含まれる。

8 mm × 202

previously published April 2012

SEMI E72 — Specification and Guide for Equipment Footprint

SEMI M40-1109 (technical revision)

bowing test and hot water test

509 defines has some ambiguity

This Test Method is useful for sodium

the incident radiation is p-polarized and incident on the test specimen at the Brewster angle in order to minimize multiple reflections

With the standardized measurement method and a guide for standardized reporting of results

This Test Method describes the standard method for measuring the brightness of silver plating on semiconductor leadframes

This test is intended to show the effect of corrosion caused when a corrosive gas such as HCl is contaminated by an oxidizer such as atmospheric moisture